画像測定機
電子部品、フラットパネルディスプレイ、半導体関連部品、光通信部品 等の最先端のエレクトニクス製造現場で活躍する光学式の画像処理寸法測定機です。
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精密自動2次元座標測定機 SMICシリーズ
新東における精密座標測定機の代表ブランド
精度に対する絶対的な信頼で多くの実績を積み重ねてきたSMICシリーズ。有機・液晶ディスプレイパネルやフォトマスク、MEMS等の精密寸法測定にその実力を発揮します。
グラナイト製石定盤、高精度セラミックエアスライダーとファイバー式レーザー干渉測長システムによる高精度XYステージ、高平面度ガラステーブル、高性能サーマルクリーンチャンバーなど、高精度測定を実現するあらゆる技術を駆使してお客様の信頼に応えます。
SMICシリーズの特徴
高精度XYステージ駆動
低発熱リニアモーターと高剛性セラミックエアスライダーによる完全非接触のXYステージ駆動が、高精度かつ長期間にわたる安定した測定を約束します。
ファイバー式レーザー干渉計
自社製のファイバー式レーザー干渉計を採用。ファイバー伝送式にすることで熱源となるレーザヘッドを本体から分離でき、測長精度の安定性を向上させています。レーザー波長は自社の波長校正装置で測定・検査され、その品質が保証されています。
高平面度ガラステーブル
上面に研磨ガラスを用いた「平面度調整機構付き二重ガラステーブル」が高いテーブル平面度を保持し、測定対象の姿勢変化を抑えて測定再現性を向上させています。
高性能サーマルクリーンチャンバー
吹出し1点温度±0.05℃、測定テーブル面上温度分布を±0.1℃の均一化された温度制御が、平面座標系における高精度測定を実現する環境を創り出します。また高性能フィルターによりチャンバー内のクリーン度をクラス100以下に保ちます。
商品名
SMIC-300Ⅲ
説明
コンパクトボディーにSMICの要素技術を凝縮したシリーズ最小モデルです。このクラスでは圧倒的に優れたハードウェア構造を有し、光コネクターから、高密度電子部品向けフォトマスク等の寸法測定に用途を広げています。
主な測定対象
- 高密度電子部品向けフォトマスク
- 高密度電子部品
- 光コネクタ―（多心MTフェルール）
- マイクロOLED
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y | X,Y繰り返し性 |
|---|---|---|
| SMIC-300Ⅲ | 300×300mm | 3σ≦0.15μm |
商品名
SMIC-800ⅢS / 800Ⅲ
説明
スマートフォンに代表されるモバイル向け有機EL・液晶ディスプレイから次世代半導体パッケージ基板用のフォトマスクまで、幅広く使用されるSMICシリーズのベストセラーモデルです。近年では、高精度なモノづくりを実現する露光装置や描画装置などの製造装置の寸法原器として採用されています。
主な測定対象
- 第4.5世代 有機EL・液晶ディスプレイパネル
- 次世代半導体パッケージ用フォトマスク
- 製造装置の精度評価 露光装置、描画装置 等
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y | X,Y繰り返し性 |
|---|---|---|
| SMIC-800ⅢS | 800×800mm | 3σ≦0.35μm |
| SMIC-800Ⅲ | 800×960mm | 3σ≦0.35μm |
商品名
SMIC-SV1100 / SV1300
SV1500 / SV2200
説明
液晶・有機ELディスプレイパネルの第5世代から第8.5世代まで対応するSMIC大型モデルであるSMIC-SVシリーズ。大型ディスプレイパネルの寸法測定においてもその実力を十分に発揮します。
特徴
ガントリー式デュアルドライブ駆動
ガントリー駆動方式を採用した大型モデルでは、リニアモーターとレーザー干渉計をガントリー部の左右に配置し、駆動時のヨーイング成分を自動補正します。さらに、高剛性かつ軽量のセラミック製ガントリーアームが軸の真直性を確保するとともに、2.5nmステップでの200mm/sec高速駆動を実現しています。
主な測定対象
- 第5～8.5世代有機EL・液晶ディスプレイパネル
- 大型フォトマスク
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y |
|---|---|
| SMIC-SV1100 | 1100×1300mm |
| SMIC-SV1300 | 1300×1500mm |
| SMIC-SV1500 | 1500×1850mm |
| SMIC-SV2200 | 2200×2500mm |
自動短寸法測定機 µ-Masterシリーズ
短寸法測定の専用モデル
有機EL・液晶ディスプレイパネルのTFTアレイ工程におけるCD・オーバーレイ測定に対応する短寸法測定専用モデル。精密座標測定機で培った高いステージ位置決め技術と、高解像度光学顕微鏡、そして進化した専用測定ソフトウェアが、LTPS※1や最先端のLTPO※2 TFT2の微細パターンの測定にも完全に対応。
また、セル工程でのTFTとカラーフィルター（CF）の貼り合わせ篏合測定、フォトマスクの線幅測定にも対応します。
※1 LTPS:低温ポリシリコンTFT（Low Temperature Poly-Silicon TFT）
※2 LTPO:低温多結晶酸化物TFT（Low Temperature Polycrystalline Oxide）
µ-Masterシリーズの特徴
高解像度顕微鏡
1μmレベルの線幅測定においても安定した精度を実現し、微細なLTPS、LTPO TFTのCD・オーバーレイ測定を可能にする自社製の高解像度光学顕微鏡を搭載しています。また、幅広い測定レンジに対応するためのレボルバー顕微鏡仕様、カラーフィルター・有機ELパネルの観察用途としてのカラーCCD仕様にも対応します。
独自のエッジ検出アルゴリズム
独自のエッジ検出アルゴリズムにより、従来では検出できなかった、各レイヤーが複雑に隣接するエリアのエッジや、低コントラストのエッジを正確に検出します。ますます微細化するTFTアレイプロセス管理において欠かせない技術となっています。
タクトタイム短縮機能
レーザーオートフォーカスによるリアルタイムフォーカス、測定位置学習機能、最短ルート自動設定機能が測定のタクトタイムを最大限に短縮します。
レシピ作成の効率化
「測定レシピ作成・編集支援ソフトウェア・レシピメーカー」で作成する測定レシピは、「測定位置情報」と測定内容を記述した「測定マクロファイル」とで構成され、任意に組み合わせでき、それぞれの編集も簡単に行えます。
特に同じ位置にレイヤーを重ねていくTFTアレイプロセスにおいては、「測定位置情報」は変更せずに「測定マクロファイル」の内容を書き換えるだけで既存のレシピを他のレイヤーのレシピに変換でき、レシピ作成時間を最大限に効率化します。
商品名
自動短寸法測定機 µ-Master
主な測定対象
- 液晶/有機ELディスプレイパネル
- フォトマスク
- 各種微細線幅対応基板
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y | X,Y繰り返し性 |
|---|---|---|
| μ-M800 | 730×920mm | 3σ≦30nm |
| μ-M1100 | 1100×1300mm | |
| μ-M1300 | 1300×1500mm | |
| μ-M1500 | 1500×1850mm | |
| μ-M2300 | 2300×2600mm |
OLEDメタルマスク用二次元座標測定機 OMICシリーズ
有機EL蒸着用ファインメタルマスク向けの専用モデル
スマートフォン、タブレット、TVからスマートウォッチ、AR/VR用スマートガラスなどに用途が広がる有機ELディスプレイ。OMICシリーズはその有機ELパネルの主に蒸着工程で使用されるメタルマスクの寸法測定の要求に対応する専用モデルです。有機ELパネル量産のメインストリームであるG6hサイズ対応にする2つのモデルを標準でラインアップしています。
（その他にサイズについても実績があります。お問い合わせください。）
商品名
OLEDメタルマスク用二次元座標測定機
OMIC-SV 1500/1500
説明
OMIC-SV 1500は、セラミックエアースライダー、レーザ干渉測長システム、サーマルクリンーチャンバーを用いた高精度測定で、高精細化するRGB発光層の蒸着に使用されるファインメタルマスクのピクセル位置精度（PPA）測定、ピクセルサイズ測定、平坦度測定（オプション）に対応します。
OMIC-1500は、共通層の蒸着や封止層のCVDなど使用されるオープンメタルマスクの開口位置、サイズ、平坦度測定（オプション）に対応します。
主な測定対象
- 有機EL蒸着用ファインメタルマスク
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y | 短寸法繰り返し性 |
|---|---|---|
| OMIC-SV1500 | 1100×1700mm | 3σ≦0.35µm |
| OMIC-1500 | 1100×1700mm | 3σ≦1µm |
自動2・3次元座標測定機 AMICシリーズ
幅広い分野の寸法管理で活躍するスタンダードシリーズ
小型の半導体パッケージ部品、高密度電子部品から大型FPDパネルまで、幅広い分野の寸法管理で活躍する新東工業のスタンダードシリーズです。
本質的な精度を追求する精緻な機構設計から生まれたAMICは、長年にわたって研究開発・モノづくりの現場で信頼され、活躍しています。
商品名
自動2・3次元座標測定機
AMIC-360/710/810
説明
AMIC-360はファインパターン化する半導体パッケージ部品の寸法管理に最適な小型モデル。
AMIC-710は高密度PCB、MLCCなどの電子部品から、その製造工程で使用されるフィルム/スクリーン/メタルマスクまで幅広い測定でユーザーからの信頼を集めるAMICシリーズのベストセラーモデルです。鋳鉄製の筐体、高真直性リニアガイド、センタードライブ機構などの要素技術が、AMICを特別な1台に仕上げています。
主な測定対象
- ICパッケージ
- 高密度電子部品
- MLCC
- タッチスクリーン
- MicroOLED
- FPDパネル
- フィルムマスク
- スクリーンマスク
- メタルマスク
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y,(Z) | X,Y繰り返し性 |
|---|---|---|
| AMIC-360 | 360×360(×60)mm | 3σ≦0.7μm |
| AMIC-710 | 700×800(×100)mm | 3σ≦0.9μm |
| AMIC-810 | 740×930(×100)mm | 3σ≦0.9μm |
| AMIC-811HA | 740×930(×100)mm | 3σ≦0.5μm |
商品名
自動2・3次元座標測定機
AMIC-1100/1710/2600
説明
1000mm以上の大エリアにおいても、なお高いXYステージ性能を維持します。
性能維持を実現するデュアルリニアモータ駆動やテーブル平面度調整機構をはじめとする本体部、そして精緻な補正技術により、信頼性の高いXY測定座標系を創出しています。
主な測定対象
- FPDパネル
- FPDペアガラス
- 配向膜印刷板
- スクリーンマスク
- メタルマスク
仕様
| 型式 | 有効測定範囲 X,Y,(Z) | X,Y繰り返し性 |
|---|---|---|
| AMIC-1100 | 1100×1300(×60)mm | 3σ≦2.0μm |
| AMIC-1710 | 1900×1700(×100)mm | 3σ≦2.5μm |
| AMIC-2600 | 2600×2250(×100)mm | 3σ≦3.5μm |
AMICシリーズ ハードウェアオプション
AMICシリーズのオプションを紹介。
カラー画像処理
画像をRGBの各色ごとにグレースケール画像処理をかけることにより、モノクロ画像では判別しにくいエッジを検出します。また、カラーでの表面観察、画像サンプリングにも活用できます。
レボルバー顕微鏡
最大5種類の対物レンズが搭載できるレボルバー顕微鏡仕様にも対応可能です。高倍率の画像による微細パターンの測定から広視野角での表面観察まで、幅広い用途に対応します。
広視野顕微鏡
標準の高低2変倍顕微鏡と組み合わせて、アライメントや観察用として広視野の顕微鏡を追加できます。
高さ測定センサー
高さ・形状測定用のレーザー変位計仕様など、用途に合わせて仕様の追加ができます。
※機種により搭載出来ない場合があります。
画像計測ソフトウェア
3D-SCAM
全ての画像計測機共通のソフトウェアである「3D-SCAM」は、高い操作性と多様な測定対象に対応する機能性を備えており、お客様の測定作業をサポートします。
基本機能
カスタマイズ可能な測定モード
あらゆる形状・寸法の測定に対応した測定モード・アライメントモードを用意。
さらにお客様のご要望により、新しいモードの作成にも対応します。
画像フィルター
膨張・縮小・メディアン等の画像フィルターにより、バリ・キズ等のノイズが多い画像やコントラストが低い画像でも正確なエッジ検出が行えます。
自動画像保存機能
測定中の画像を自動保存可能です。「全ての画像を保存」「エラー箇所のみ保存」などの設定ができ、自動測定中装置から離れ、測定終了後エラー箇所の画像確認が出来ます。
デジタルズーム機能
最大8倍まで32段階でのデジタルズーム表示が可能です。
これにより微細な箇所でも測定位置の指示が容易に行えます。
オートレビュー機能
測定結果表示ウィンドウから任意の測定データを指示し、顕微鏡をその座標へ移動することが可能です。
ティーチングマクロ編集
照明・オートフォーカス・画像フィルター等の各種測定条件はもちろん、測定位置座標・エッジ検出ボックス設定・エッジ検出パラメータ等の編集もでき、ワークの状態に応じた測定プログラムの変更が可能です。
パターンマッチング
あらかじめ登録しておいた画像を視野内から検出することで、ワークのセッティングずれや設計値からのずれ対応します。さらに視野の周囲への周回サーチ機能も完備しています。
輝度プロファイル表示
画面上の任意の箇所で輝度プロファイル表示ができ、画像の見えだけに頼らず、輝度値からエッジ情報を数値管理できます。
オプションソフトウェア
技術革新から生まれる新たなプロセス管理のニーズに対応する為、インテリジェンスなソフトウェアオプションをご用意しています。
レシピメーカー（測定レシピ作成・編集支援ソフトウェア）
レシピメーカーで作成する測定レシピは「測定位置情報」と測定内容を記述した「測定マクロファイル」とで構成され、それを任意に組合せでき、それぞれの編集も簡単に行えます。
測定座標のテキストデータからの読込みや測定ポイントの入替え、グラフィック表示上での基準マクロの測定位置指定等、生産現場で多くのレシピを管理・編集する上で必須のソフトウェアです。
C-Auto（オフラインCAD ティーチングソフトウェア）
CADデータを元にワーク作成前に自動測定プログラムを作成することができ、ワークの完成後すぐに自動測定が可能になります。操作方法は測定機本体の計測ソフトウェア3D-SCAMと同じすので、操作方法を一から覚える必要がありません。CADフォーマットはDXF及びガーバー等に対応、そのほかドリル加工機のNCデータにも対応しています。
レシストレーションTP（レジストレーション解析ソフトウェア）
レジストレーション精度の評価に最適なオプションウェアです。主にフォトマスク上に格子配列されたパターン位置精度を設計値と比較し、回転、リニア、直交、シフト 等の指標で解析可能。グラフィック表示することで数値だけでなく傾向の解析が出来き、帳票用のデータとしても使用いただけます。
設計値、測定値、公差範囲表示
電池・精密営業グループ
受付時間/月～金 9:00～12:00、13:00～17:00(祝祭日・弊社休日を除く)
